2025年11月企业采购意向公告

所属分类： 交易公告

发布时间： 2025-11-05

概要：

为便于供应商及时了解企业采购信息，现将成都空港科创投资集团有限公司（或下属全资子公司）2025年11月的微纳光学公共技术服务平台建设项目设备采购（一批次）企业采购意向公告如下（详见附件）（原9月企业采购意向重新调整）。

本次公开的采购意向是本单位企业采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。

 

 

成都空港科创投资集团有限公司

2025年11月3日

附件：

 

微纳光学公共技术服务平台建设项目设备采购（一批次）  
序号 名称 项目特征 我司联系人及电话
1 电感耦合反应离子刻蚀机（ICP) ★1.最大支持8英寸晶圆，并通过托盘向下兼容6英寸、4英寸和碎片，厚度≤10mm，带有观察窗，配置机械手传送功能，具备腔室加热功能；
▲2.下电极：满足8寸片需求 ，水冷，配有单独的循环冷却器，温度控制范围： 15℃到150℃；
▲3.背氦冷却，背氦流量≥50sccm/或压强≥500Pa，下电极为背氦空腔平板设计无导流槽；
★4.射频源：Source源频率为13.56MHz（或2MHz），功率≥1000W，bias源频率为13.56MHz，功率≥600W；
★5.真空系统：防腐蚀设计，≥1300 L/s，前级泵为干泵，抽速≥100m3/h，极限真空≤0.01Pa；漏率≤≤0.1Pa・L/s；
★6.气路系统：不少于7路工艺气体管路，包括Cl2，BCl3，SF6，CHF3，CF4，O2，Ar；两路吹扫N2、He冷却；
★7.刻蚀材料：3-5族化合物，包含：InP、GaP、GaAs、 InGaN等，工艺指标：刻蚀片内一致性≤±5%；重复性≤±3%；
▲8.配备在线检测功能；
9.刻蚀工艺参数可以进行多步骤编程；工艺数据后台保存可追溯，设备状态实时可监控；
10.易损件备用件一套（包括垫圈、压环等）；
11.设备设计符合SEMI或同等安全标准；		 韩云升  15884583841
2 磁控溅射镀膜机 1. 真空系统
★1.1 极限真空度：<7×10-5Pa；系统漏率：<5X10-7Pa.L/；
★1.2 恢复真空时间：短时间暴露大气后抽气至9×10-4Pa<30min；
▲1.3 达到极限真空度后，关闭高真空阀1小时，真空室真空度≤7×10-1Pa；12小时后，真空度＜5Pa；
1.4 配备复合真空计
2. 工件架靶位系统
★2.1 工件架可放置Ø200mm(8inch）样品一片，4/6inch样品配备对应承片工装；
★2.2 3个磁控靶（斜靶），每个靶为Ø101.6mm；2个常规靶位，1个反应靶位；
★2.3 样品上置，自下往上溅射；
▲2.4 工件架旋转公转、自转任意调节，上驱动方式，工件盘轴向和径向跳动≤±1mm；
▲2.5 溅射距离可调节范围8-12cm；
▲2.6 溅射角度可调节，调节范围≥±10°，调节精度为1°；
▲2.7 load-lock送样系统；
3. 烘烤系统
▲3.1 温度最高≥300℃，温度可控可调；
▲3.2 控制精度为±1℃，控温方式为PID自动控温及显示；
▲3.3 工件盘温度不均匀性＜±1℃（约50分钟）；
▲3.4 温度控制仪精度≤1℃；
4. 电源配置（进口）
▲4.1 射频、直流、直流脉冲、直流偏压电源配置；
▲4.2 直流射频电源*2；功率≥1000W；
▲4.3 射频电源*1；功率≥600W，13.65Hz；
▲4.4 偏压电源*1；功率≥300W；
★5. 配置3路工艺气体，Ar、N2、O2；
★6. 配置离子源清洗功能，离子源为射频离子源；
★7. 配备单路单显质量流量计，量程≥100sccm，配备Speedflo；
★8. 膜层均匀性≤±3%@8inch。
9. 具备膜厚在线监测系统；		 韩云升  15884583841
3 等离子体清洗机 ★1：腔室容积＞100L；可同时满足4-6片8寸晶圆清洗，极板间距可调；
★2：电源位13.56Mhz射频源；功率≥1000W；
★3：2路气体：Ar、O2；流量≥30sccm；
▲4：真空度≤30Pa，真空泵为无油干泵（进口）；
5：PLC+触摸屏控制		 韩云升  15884583841
4 双面对准曝光机 ★1.光源为UVLED，波长365nm/405nm/435nm混波；强度为：10-100mj/cm2；误差精度±1%，最小可调节单位：0.1mw/cm^2（连续调节10次后，测试光强值变化1mw/cm^2)；
★2.光强均匀性：8英寸范围内＜±2.5% :（测试中心点1个，4英寸不少于5个点，8英寸不少于9个点）（（最大值-最小值）/（平均值*2））；
★3.6英寸（方片/圆片），8英寸（圆片）；0.1-5mm厚度；适配掩模版7/9inch；
★4.曝光类型：真空吸附、接触式、接近式；曝光精度分别≤1um、2um、3um；
★5.具备正面对准以及以及背面对准功能；其中正面对准精度≤±0.5um；背面对准精度≤±1um；
★6.对准模式手动、自动可选；
▲7.X/Y位移台移动重复定位精度≤0.5um；Z轴移动定位精度≤1um；载物台平行度≤±3um；
▲8.接近式曝光曝光间隙可调0-500um；
9.后期支持OTA红外对准升级等功能，预留升级接口；		 韩云升  15884583841
5 低温沉积设备 ★1.沉积工件规格4、6、8寸，1片/批，单面沉积镍；
★2.设备配备浸润、沉积、清洗，3个功能；
★3.具备真空浸润功能；
▲4.具备工件与夹具表面清洗功能；
▲5.沉积腔沉积电源为脉冲直流可调电源（进口），电流量程10mA-10A，电流精度1mA；
▲6.沉积腔具备循环过滤系统，循环流量0-30L/min，配备PP过滤器，过滤精度≤2um，配备磁力泵，配备压力表，流量监控；
▲7.具备干燥功能，氮气枪、纯水枪各一把；
▲8.配备4、6、8寸多点式导电圈电镀夹具；
9.控制系统为PLC+工控机控制；多步骤工艺设置，参数可保存追溯；保存条数≥100条；
★10.配备设备实时监控功能(PH值、温度值、电流值)；
★11.1mm厚度，工件均匀性8inch≤8%，6inch≤5%（去边5mm，5点测试）；		 韩云升  15884583841
6 干燥箱 ▲1.烘箱容积≥60L；最高温度≥250℃；温度一致性±1℃@250℃；
2.风扇对流加热，过温保护，无人值守保护；		 韩云升  15884583841
7 热版 ★1.板面尺寸≥300*400；
▲2.梯度程序升温，升温速率可调节；
▲3.温度范围≥室温-250℃；
▲4.温度均匀性≤±2℃		 韩云升  15884583841
8 激光共聚焦显微镜 1.光源
★1.1 白光为LED光源，寿命＞3万小时；
★1.2 激光波长≤405nm，测量时功率≤1mW，寿命＞1.5万小时，功率波动＜1%/小时，激光能级不大于2级；
2.位移台
★2.1 位移台X/Y行程≥100mm，电动控制，位移控制分辨率不低于0.5um；定位精度/重复精度不低于0.5um；
▲2.2 调焦范围＞0-30mm，高度分辨率＜10nm，显示分辨率≤1nm，自动聚焦扫描；
3.物镜配置
★3.1 物镜配置电动控制镜头转换；物镜转盘组不低于6个镜头安装位；镜头为激光专用镜头；主要配备镜头如下：
★3.2 5X:NA不低于0.15，10X:NA不低于0.30，20X：NA不低于0.6，50X：NA不低于0.95，100X：NA不低于0.95
▲3.7 镜头放大不低于1,000x，数码放大不低于10,000x，光学变焦1x～8x，最高扫描图像分辨率不低于2048*1080，平面分辨率不低于120nm，激光观察/白光观察可自由选择；
4.主机配置
4.1 主流品牌机，内存＞32GB，硬盘容量＞2Tb，独立显卡显存不低于4GB；
4.2 显示器分辨率不低于2K，尺寸不低于27英寸；
5.测量
▲5.1 具备测量数据自动保存，保存路径可选，测量参数可选择设置，快速扫描速率≥30帧/秒；
▲5.2 具备边缘增强、对比增强、滤波、剖面校正、快速傅里叶变换等功能；
▲5.3 具备测量距离、高度、角度、宽度，面积，夹角，曲率半径/残差等参数的功能；
▲5.4 可以进行点到点、点到多点测试宽度/高度，测量结构斜率>80°；
▲5.5 可以进行圆心自动识别，圆心距测量，可进行粗糙度测量；
▲5.6 可以进行路径设定以及拼接测量，可以进行膜厚测量；
▲5.7 可以进行产品长度/宽度测量；
▲5.8 可以生成测试报告以及三维数据点云输出（比如CSV等格式）；
▲5.9 批量测试能显示多个采集的数据，并且统一显示比例、3D显示角度设定、图像校正和分析，并统一输出Excel等文档中；
6. 配备设备校正金样
7. 性能
★ X/Y准确度＜3%；
★ Z准确度＜0.5%（＜0.3+L/100um)；
★ X/Y重复性优于20nm，Z重复性优于12nm，拼接误差＜0.1%；

★★ X/Y准确度＜1.5%；
★★ Z准确度＜0.5%（＜0.15+L/100um)；
★★ 图像分辨率可达不低于4096*4096；
★★ 调焦范围0-100mm；		 韩云升  15884583841
9 光学显微镜 ★1. 无限远校正光学系统，
★2. 测量范围≥4寸；物镜放大倍率5x、10x、20x、50x、100x；手动物镜转盘；目镜10x；可测试样品高度≥20mm；透反射模式测量；
★3. 物镜：明暗场半复消色差金相物镜：5X/NA≥0.13/WD≥12mm，10X/NA≥0.25/WD≥6.5mm；20X/NA≥0.4/WD≥3mm；50X/NA≥0.75/WD≥1.00mm；100X/NA≥0.85WD≥1mm；个数为5个；
▲4. 目镜：视场≥25mm，倾角0-25°；个数为2个；
★5. 配备白光光源；色温恒定；支持明场/暗场/偏光观察(偏光角度360度可调）；
★6. 机械移动平台，面积4英寸，X、Y方向同轴调节；移动范围：≥（Y）100mm*（X）100mm；带Y轴锁定机构，移动精度：≤0.1mm；
▲7. 透反两用机架：低手位粗微同轴调焦机构。粗调行程≥25mm,微调精度≤0.002mm；
▲8. 具备消色差功能；
▲9. 可进行自动校准；
▲10. 可进行阴影校正；
▲11. 成像系统（显微镜原厂）：≥830万像素。传感器尺寸：≥1/1.8”最大帧率及最大分辨率：≥30fps@3072x2048，逐行扫描，实时观察无延迟；
★12. 配套专业测量软件，进行尺寸测量；图像拼接；
13. 配备白平衡、曝光调节等功能；
14. 配备景深扩展成像、高动态范围成像等功能；
15. 主机电脑为主流品牌机，CPUi7,内存16GB，固态硬盘256GB，独显，存储≥2Tb；
16. 配备测微台尺		 韩云升  15884583841
10 光学显微镜 ★1. 无限远校正光学系统，
★2. 测量范围≥8寸；物镜放大倍率5x、10x、20x、50x、100x；手动物镜转盘；目镜10x；可测试样品高度≥20mm；透反射模式测量；
★3. 物镜：明暗场半复消色差金相物镜：5X/NA≥0.13/WD≥12mm，10X/NA≥0.25/WD≥6.5mm；20X/NA≥0.4/WD≥3mm；50X/NA≥0.75/WD≥1.00mm；100X/NA≥0.85WD≥1mm；个数为5个；
▲4. 目镜：视场≥25mm，个数为2个；
★5. 配备白光光源；色温恒定；支持明场/暗场/偏光观察(偏光角度360度可调）；
★6. 机械移动平台，面积8英寸，X、Y方向同轴调节；移动范围：≥（Y）200mm*（X）200mm；带Y轴锁定机构，移动精度：≤0.1mm；
▲7. 透反两用机架：低手位粗微同轴调焦机构。粗调行程≥25mm,微调精度≤0.002mm；
▲8. 可进行波相差控制；
▲9. 可进行自动校准；
▲10. 可进行阴影校正；
▲11. 成像系统（显微镜原厂）：≥830万像素。传感器尺寸：≥1/1.8”最大帧率及最大分辨率：≥30fps@3072x2048，逐行扫描，实时观察无延迟；
★12. 配套专业测量软件，进行尺寸测量；图像拼接；
13. 配备白平衡、曝光调节等功能；
14. 配备景深扩展成像、高动态范围成像等功能；
15. 主机电脑为主流品牌机，CPUi7,内存16GB，固态硬盘256GB，独显，存储≥2Tb；
16. 配备测微台尺		 韩云升  15884583841
11 表面离子计数器 ▲1.光源：半导体激光器；
▲2.采样流量：28.3L/min±5%，内置流量传感器，流量自动闭环控制；
★3.粒径通道：0.1、0.2、0.3、0.5、1.0um，（5.0μm可选）；
4.显示器：液晶触摸屏（LCD）；
5.电源：可充电；
6.数据储存：可储存＞100,000组数据；
7.具备打印功能；
★8.表面探头：2个，12.7mm和50mm；
★9.可根据探头面积直接判断洁净度等级
▲10.环境颗粒度，可直接显示个/m³或ft³粒子数量
▲11.表面颗粒度，可直接显示个/m²、ft2、in2、cm²、mm2		 韩云升  15884583841
12 椭偏仪 1.主机配置
★1.1 标准纳米薄膜样品；
▲1.2 微光斑组件，微光斑直径200um；
★1.3 Z轴自动调焦系统，行程不小于0-10mm，重复定位精度≤3um，分辨率≤1um；
2.光谱测量
★2.1 193nm-1700nm；
▲2.2 自动变入射角度，角度范围30°-90°；角度准确度≤0.02°；角度重复性≤0.01°；
★2.3 测量膜厚精度重复性≤0.01nm； Si上的100nmSiO2膜厚；
★2.4 折射率测量精度≤0.0005； Si上的100nmSiO2膜厚；
▲2.5 光源为高稳定性的宽光谱光源；
▲2.6 可设置自动光阑大小；可根据样品光强信号，自动调节积分时间；
▲2.7 采样波长间隔：≤1000nm波段：≤0.45nm；1000-1700nm波段：≤3.5nm；
▲2.8 可自动设置光学组件方位角；
★2.9 能进行自动或手动执行测量；
3.样品台
★3.1 样品台尺寸：支持放置8寸产品；
▲3.2高低调节：行程 10mm；
▲3.3 二维俯仰调节范围：±3°；
▲3.4 支持真空吸附固定；
★3.5 显微镜、CCD电子图像对准；
4.测量结果输出
★4.1 椭偏角, 退偏度，透射率，反射率，介电函数，折射率，消光系数，入射角，反射角；
▲4.2 数据融合、剪辑；
▲4.3 能进行建模、拟合，
▲4.4 支持椭偏角、反射率、折射率仿真计算；		 韩云升  15884583841
备注：
★：（核心指标）必须满足
▲：（重要指标）可以满足或更换成提出供应商自有指标
无符号：（一般指标）基本配置
★★：（技术加分项）不强制要求满足		  

 

关键词： 2025年11月企业采购意向公告

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微纳光学公共技术服务平台建设项目设备采购（第一批次）企业采购意向公告

已完成

2

变更公告

未进行

3

流标或终止

2026-01-09

微纳光学公共技术服务平台建设项目设备采购（一批次）流标公告

已完成

4

评标结果

未进行

5

中标结果

未进行

备注：

绿色代表已完成的环节。
红色代表进行中的环节。
灰色代表未进行的环节。

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